虽说这种工艺日后也在用，不过如果是想用在集成电路上，那明显就是想多了，虽然58年的第一块集成电路也没好到哪里去，可是至少没有玩儿这种简单粗暴的叠叠乐，虽然长得丑，但还是老实使用的平面晶体管的工艺，毕竟集成电路的标志之一，就是这种工艺了。

看来要搞的事情，还不少啊。

这就回到了前世在网上互喷的时候，最常见的话题——光刻机。

光刻机是一定要搞的，这是其中最重要的一個工序，没有这个，其他的CVD、PVD、气体扩散、蒸镀、掺杂这些技术都会失去意义。

从原理上来说就是，通过光刻技术，可以实现在指定区域进行掺杂、蚀刻、导线连接、形成工作结构等操作。

严格说来，说“光刻机在硅片上刻出电路”是不对的。光刻本身是刻不出PN结，也形不成电路的，光刻只是为PN结、导线连接、内部元件的按要求产生，提供了一个条件，它刻出的，是电路的雏形，以及提供保护。

就有点点类似我们在对工件喷漆的时候，会用报纸把工件上不需要喷漆的部分保护起来，仅此而已。

但是没有这个保护，结果就好像在没有盖报纸的工件上喷漆，控制得再好，也会喷到不需要的地方去，这工件就废了，更别说在硅片这小的螺蛳壳里做道场了。

不过光刻机这玩意，高振东现在根本就不去想什么紫外、极紫外光刻，浸润光刻，多次曝光这些鸟玩意，整个技术环境根本支撑不了的。

他要搞的，就是用自己亲手做出来的现成的东西——激光光刻，同时光刻制程，他根本就不去想多少纳米，连微米级别都嫌高。

对他来说，甚至只要亚毫米级别的就好，也就是100微米到10微米这个级别，能在1平方厘米的面积上，放下十来个乃至几十个晶体管就行。

可别小看这个密度，已经能做很多事情了，尤其是对于DJS-60D乃至他规划中的二代高性能计算机来说。